Brief: Descubra o Substrato Óptico de Pastilha LaAlO3 Redonda, um substrato de dupla face polida em fase experimental de alta pressão, ideal para filmes finos supercondutores de alta temperatura e aplicações de micro-ondas. Perfeito para dispositivos eletrônicos, catálise e muito mais.
Related Product Features:
Substrato de monocristal supercondutor de alta temperatura para crescimento epitaxial.
Excelente correspondência de rede com materiais de estrutura perovskita.
Baixa perda dielétrica, adequada para aplicações de micro-ondas e ressonância dielétrica.
Pequeno coeficiente de expansão térmica garante estabilidade sob temperaturas variáveis.
Boa estabilidade química, insolúvel em ácidos minerais a 25°C.
Aparência transparente a marrom com gémeos visíveis em substrato polido.
Ampla lacuna de energia e grande área superficial específica para desempenho aprimorado.
Boa estabilidade térmica, ponto de fusão a 2080°C.
Perguntas frequentes:
Quais são as principais aplicações do substrato óptico de pastilha de LaAlO3 redondo?
É utilizado em dispositivos eletrônicos, catálise, células de combustível de alta temperatura, cerâmica, tratamento de esgoto e como material de substrato para o crescimento epitaxial de filmes finos supercondutores de alta temperatura.
Quais são as vantagens de usar LaAlO3 como material de substrato?
LaAlO3 oferece baixa constante dielétrica, baixa perda dielétrica, bom ajuste de rede, baixo coeficiente de expansão térmica, boa estabilidade química, ampla faixa de energia, grande área superficial específica e boa estabilidade térmica.
Como o substrato LaAlO3 se comporta em altas temperaturas?
LaAlO3 tem um alto ponto de fusão de 2080°C e boa estabilidade térmica, tornando-o adequado para aplicações em altas temperaturas, como pilhas de combustível e dispositivos eletrônicos.